Canon, companie cunoscută mai degrabă pentru aparate foto şi tehnologie optică a intrat în segmentul producătorilor de cipuri în ultima săptămână. A trecut direct la procesul de litografiere de 5 nanometri şi nu foloseşte tehnologie americană, ceea ce înseamnă că ar fi un partener viabil pentru Huawei pe viitor.
Firma japoneză, cunoscută mai mult pentru imprimante şi aparate foto a lansat un sistem de nanoimprimare litografica cu câteva zile în urmă. Concurează cu olandezii de la ASML, care au pus restricţii chinezilor. ASML domină segmentul litografierii EUV acum. Canon se laudă că echipamentele sale sunt pregătite să ajungă şi la cipseturi de 2 nanometri pe viitor.
Tehnologia EUV de la ASML e vitală pentru că ajută la producţia de semiconductori de 5 nanometri sau mai mici. Cifra reprezintă câtă "tehnica" poţi înghesui pe un cip. Cu cât e mai mică, cu atât mai multă funcţionalitate are cipul şi îi creşte şi puterea. Maşinăriile de litografiere sunt cele care "imprimă" designul unui cip pe materialul din care e produs semiconductorul.
ASML foloseşte lumina ultravioletă, în vreme ce Canon nu necesită vreo sursă de lumină cu lungime de undă specială, reducând deci consumul. Canon optează pentru NIL (Nanoimprint Lithography) şi asta încă din 2004. Tehnologia nu a fost totuşi acceptată la scară largă, pentru că nu e aşa eficientă (sau nu era) ca EUV. NIL are neajunsuri la overlay, throughput şi eficiență. Analiştii se aşteaptă că impactul realizării Canon să vină de abia în 5 ani. NIL a fost folosit mai des pentru producția de memorii decât la procesoare.
SK Hynix şi Toshiba lucrau la NIL încă din 2015, fără rezultate concrete. Compania olandeză are restricţii cu privire la partenerii spre care poate exporta maşinării EUV de litografiere, în special cei din China. Canon va intra cu siguranţă în colimatorul americanilor acum. Jocul geopolitic riscă iar să stagneze inovaţia.
